特許
J-GLOBAL ID：200903031096333917
成膜装置及び成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-394259
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247959
出願日： 2000年12月26日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 膜厚分布の均一性の高い成膜装置を提供する。【解決手段】 長手方向を有する蒸着セルもしくは複数個の蒸着セルを設けた蒸着源を用い、この蒸着源を蒸着源の長手方向と垂直な方向に移動させることで基板上に薄膜を成膜する。蒸着源を長くすることにより長手方向における膜厚分布の均一性が高まり、その蒸着源を移動させて基板全体を成膜するので基板全体の膜厚分布の均一性を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
長手方向を有する蒸着源及び前記蒸着源を前記蒸着源の長手方向と垂直な方向に移動させる機構を含むことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
C23C 14/24 C
, C23C 14/24 D
, C23C 14/24 E
, H05B 33/10
