特許
J-GLOBAL ID：200903031142118201
イオン注入装置及びイオン注入方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-130705
公開番号（公開出願番号）：特開平8-329879
出願日： 1995年05月29日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、最適なイオンビーム注入角でイオンビームをウエハに注入可能なイオン注入装置及び最適な深さに酸素イオンを注入し得るSiMOX用イオン注入方法を提供するにある。【構成】イオン源100から取り出されたイオンビームXをウエハ330に打込む。ウエハ300は、回転デイスク310に保持されており、この回転デイスクは、回転するとともに、イオンビームにほぼ直交する平面内でモータ370によって揺動される。さらに、モータ352によって、回転デイスク310は、チルト軸352を中心に回動して、ウエハ330とこのウエハに入射するイオンビームXの入射角θを可変する
請求項（抜粋）：
イオン源から取り出されたイオンビームをウエハに打込むイオン注入装置において、ウエハを保持するウエハ保持手段と、上記イオンビームにほぼ直交する平面内で上記ウエハ保持手段と上記イオンビームの相対位置を変化させる相対位置変化手段と、上記ウエハ保持手段に保持されるウエハとこのウエハに入射するイオンビームの入射角を可変する入射角可変手段を備えたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
H01J 37/317 B
, C23C 14/48 Z
, H01L 21/265 E
