特許
J-GLOBAL ID:200903031146937096
活性炭およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三枝 英二 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-001172
公開番号(公開出願番号):特開2003-206121
出願日: 2002年01月08日
公開日(公表日): 2003年07月22日
要約:
【要約】【課題】 光学的異方性組織を有する活性炭原料を用いて、高比表面積の活性炭を簡単、且つ安価に製造する方法を提供する。【解決手段】 光学的異方性組織を50%以上有する活性炭原料を、酸素含量が15〜35重量%となるように酸素架橋重合により安定化処理し、次いで賦活処理する活性炭の製造方法;および該方法で得られる、BET法における比表面積が1000m2/g以上で、平均細孔半径が0.8〜1.5nmで、細孔容積が0.8ml/g以上で、且つ真比重が1.9以上である活性炭。
請求項(抜粋):
光学的異方性組織を50%以上有する活性炭原料を、酸素含量が15〜35重量%となるように酸素架橋重合により安定化処理し、次いで賦活処理する活性炭の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C01B 31/12
, H01G 9/00 301 A
Fターム (5件):
4G046HA06
, 4G046HA07
, 4G046HB05
, 4G046HC04
, 4G046HC05
引用特許: