特許
J-GLOBAL ID:200903031220702268
バッフル板とその製造装置及び製造方法とバッフル板を含むガス処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-368473
公開番号(公開出願番号):特開2001-179078
出願日: 1999年12月24日
公開日(公表日): 2001年07月03日
要約:
【要約】【課題】 プロセス条件に依存することなく均等排気を実現するガス処理装置と、該ガス処理装置を構成するガス処理室と、該ガス処理室に組み込まれたバッフル板と、該バッフル板の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 供給されたガスにより化学的処理が行われる処理空間と、処理空間に隣接し化学的処理の結果生じた排ガスを排気するためのダクトとを仕切るバッフル板21であって、バッフル板21上の位置によって変化するバッフル板21の両側の圧力差に応じて、バッフル板21上の複数の位置にバッフル孔23が設けられたことを特徴とするバッフル板21を提供する。
請求項(抜粋):
供給されたガスにより化学的処理が行われる処理空間と、前記処理空間に隣接し前記化学的処理の結果生じた排ガスを排気するためのダクトとを仕切るバッフル板であって、前記バッフル板上の任意の位置に仮想的に複数の貫通孔を設けたとき、前記複数の貫通孔のそれぞれにおける前記排ガスの流量の計算値が同じになるような前記位置に、貫通孔が設けられたことを特徴とするバッフル板。
IPC (4件):
B01J 19/00
, C23C 16/455
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (4件):
B01J 19/00 G
, C23C 16/455
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
Fターム (28件):
4G075AA30
, 4G075AA62
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075BD03
, 4G075BD05
, 4G075BD14
, 4G075BD26
, 4G075CA05
, 4G075EC10
, 4G075EE31
, 4K030EA11
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030KA12
, 4K030KA45
, 5F004BB28
, 5F004BC02
, 5F004BC03
, 5F004CA02
, 5F045BB01
, 5F045EB02
, 5F045EG02
, 5F045EG03
, 5F045EG06
, 5F045GB06
, 5F045GB17
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開昭62-098727
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成膜又はエッチング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-193558
出願人:住友電気工業株式会社
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特開昭63-141318
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特開昭63-141318
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特開昭63-111621
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特開昭63-111621
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均一なガス流パターンのための排気バッフル
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-180171
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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特開昭62-098727
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