特許

J-GLOBAL ID：200903031248534654

光学誘電体多層薄膜

発明者： 江藤 和幸 ,  渡辺 晃司 ,  西本 圭司
出願人/特許権者： 日本航空電子工業株式会社
代理人 (1件)： 草野 卓 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-358989
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174612
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 高エネルギ光に対する多層薄膜の耐力を向上し、多層薄膜の劣化を低減した光学誘電体多層薄膜を提供する。【解決手段】 互いに光屈折率を異にする第1の誘電体薄膜2と第2の誘電体薄膜3を交互に成膜して形成した誘電体多層薄膜の最上層に酸化ハフニウム薄膜を成膜形成した光学誘電体多層薄膜。

請求項（抜粋）：

互いに光屈折率を異にする第1の誘電体薄膜と第2の誘電体薄膜を交互に成膜して形成した誘電体多層薄膜の最上層に酸化ハフニウム薄膜を成膜形成したことを特徴とする光学誘電体多層薄膜。

IPC (3件)：

G02B 5/08 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00

FI (3件)：

G02B 5/08 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A

Fターム (20件)：

2H042DA08 ,  2H042DA12 ,  4F100AA17C ,  4F100AA19A ,  4F100AA20B ,  4F100AG00 ,  4F100BA05 ,  4F100BA08 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA13 ,  4F100JG05A ,  4F100JG05B ,  4F100JL00 ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JN18A ,  4F100JN18B ,  4F100JN28

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レーザ用反射鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-211318   出願人：日本電気株式会社
• 特開平2-295181