半導体製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶原辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239783
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068532
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】カセットの種別と各種別毎のカセットの個数を自動的に決定する。【解決手段】投入カセット自動決定システム30はタッチパネル23のタッチで投入するカセットと使用するプロセスレシピを指示するカセット投入・使用プロセスレシピ指示手段31、指示されたカセットの種別毎の一カセット当たりのウエハ枚数を取得し指示されたプロセスレシピを記憶装置26のファイルの中から読み出しカセット種別毎のウエハの総枚数をファイルの中から取得するファイル読出・パラメータ取得手段32と、取得したカセットの一カセット当たりのウエハの枚数と取得したウエハの総枚数とから種別毎のカセットの必要個数を算出するカセット個数算出手段33とを備えている。【効果】投入すべきカセットの種別と個数を自動的に決定できるため、作業者の負担や操作ミスを低減できる。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハの種別に応じてカセットを種別毎に分けて使用する半導体製造装置において、カセットの種別毎にそれぞれ定められた半導体ウエハの枚数と、プロセスレシピで使用する種別毎の半導体ウエハの総枚数とから、種別毎のカセットの必要個数を算出することを特徴とする半導体製造装置。

Fターム (9件)：

5F031CA02 , 5F031CA11 , 5F031DA01 , 5F031DA17 , 5F031JA49 , 5F031MA28 , 5F031NA05 , 5F031PA02 , 5F031PA05

引用特許：

出願人引用 (3件)

半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-308769 出願人：国際電気株式会社
特開平2-297925
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-168156 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社

審査官引用 (3件)

半導体製造装置に於けるウェーハ移載方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-308769 出願人：国際電気株式会社
特開平2-297925
熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-168156 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社

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