特許
J-GLOBAL ID：200903031283876991
金属酸化物ナノ薄膜の製造方法、該方法により得られたナノ薄膜及び該ナノ薄膜を有する誘電材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-095770
公開番号（公開出願番号）：特開2004-299003
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】極めて薄い金属酸化物ナノ薄膜の製造方法及び該方法により得られたナノ薄膜の提供、並びに該ナノ薄膜を用いた誘電材料の提供。【解決手段】基材表面に金属塩を含む水溶液を接触させることにより、前記金属塩に含まれる金属イオンを前記基材表面に吸着させる工程Aと、前記基材表面に吸着させた金属イオンを純水と接触させる工程Bとからなり、好ましくは工程A及びBを少なくとも1回繰り返し、繰り返し工程において異なる種類の金属塩を含み、得られる金属酸化物ナノ薄膜がアモルファス状であり、ナノ薄膜の膜厚が0.1〜10nm、密度が0.5〜10.0g/cm3であり、誘電材料が該ナノ薄膜を有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材表面に金属塩を含む水溶液を接触させることにより、前記金属塩に含まれる金属イオンを前記基材表面に吸着させる工程Aと、前記基材表面に吸着させた金属イオンを純水と接触させる工程Bとからなることを特徴とする金属酸化物ナノ薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
B82B3/00
, B01J19/00
, B82B1/00
, H01L21/283
, H01L21/316
B82B3/00
, B01J19/00 K
, B82B1/00
, H01L21/283 B
, H01L21/316 B
, H01L21/316 C
4G075AA24
, 4G075BB04
, 4G075BB08
, 4G075BB10
, 4G075BD16
, 4G075CA57
, 4G075FB02
, 4M104CC05
, 4M104DD99
, 4M104EE03
, 5F058BA20
, 5F058BC03
, 5F058BD05
, 5F058BF69
, 5F058BF71
, 5F058BJ01
