特許

J-GLOBAL ID：200903031290321377

平版投射装置、回折モジュール、センサモジュールおよび波面収差を測定する方法

発明者： ヨハンネス ヤコブス マテウス バセルマンス ,  マルコ ヒューゴ ペトルス モエルス ,  ハンス ファン デル ラーン ,  ロベルト ウィルヘルム ウィレケルス ,  ウィルヘルムス ペトルス デ ボエイ ,  マルクス アドリアヌス ファン デ ケルクホフ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034079
公開番号（公開出願番号）：特開2002-334831
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：

【要約】【課題】 本発明は1個以上の専用の可動支持構造体を組み込むことなく平版投射装置における波面収差を測定する平版投射装置用の測定システムを提供する。【解決手段】 測定システムは格子平面に格子パターンを有し、投射ビームを出入させるように可動の格子と、ピンホールパターンをその平面に有し、ピンホールプレートに配置のピンホールと、投射ビームの電界振幅の空間分布がピンホール平面にける投射ビームの電界振幅の空間分布の概ねフーリエ変換である位置においてピンホールの下流に位置した検出平面と一致した検出面を備えた検出器とを含む干渉測定システムである。

請求項（抜粋）：

放射線の投射ビームを提供する放射システムと、投射ビームがトラバースする対象物平面において所望のパターンに従って投射ビームをパターン化するように作用するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、前記対象物平面の下流にあって、パターン化したビームを基板の目標部分上に投射する投射システムと、投射システムの波面収差を測定する干渉測定システムとを含む平版投射装置において、格子平面が概ね前記対象物平面と一致するように投射ビームへ出入するように運動可能であり、格子平面に格子パターンを有する格子と、ピンホール平面においてピンホールパターンを有し、ピンホールプレートに配置されたピンホールであって、投射ビームへ出入するように運動可能であり、そのためピンホール平面が投射システムの下流の平面と概ね一致し、前記対象物平面に光学的共役なピンホールと、検出面が検出平面と概ね一致した検出器であって、前記検出平面が投射ビームの電界振幅の空間分布がピンホール平面における投射ビームの電界振幅の空間分布の概ねフーリエ変換である位置においてピンホールの下流に位置している検出器とを含むことを特徴とする平版投射装置、

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G01M 11/02 B ,  G02B 27/18 A ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (7件)：

2G086HH06 ,  5F046BA03 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB14 ,  5F046DC04 ,  5F046DC10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-208681   出願人：キヤノン株式会社