特許
J-GLOBAL ID：200903031301084208
有機EL素子の製造方法、有機EL素子、及び電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-335674
公開番号（公開出願番号）：特開2005-100897
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 加熱処理無しで結晶性薄膜からなる機能層を形成して長寿命化等を可能にし、さらには、ドット表示を可能にすることで表示の自由度を高めることのできる有機EL素子の製造方法、およびこれによって得られる有機EL素子、電子機器を提供する。 【解決手段】 機能層110の形成材料として、再結晶性を有した低分子系材料からなる形成材料を溶媒に溶解して液状体にし、この液状体を第1の電極111上に配置する工程と、この液状体の近傍での、溶媒からなる気体の分圧を、液状体をなす溶液が過飽和状態になる第1の分圧に制御することにより、液状体に結晶核を生成させる工程と、結晶核の生成後に、この液状体近傍での気体の分圧を、結晶核が結晶成長可能となる第2の分圧に低下させることにより、形成材料からなる結晶性薄膜を形成し、この結晶性薄膜から機能層110を構成する層を形成する工程と、を備えた有機EL素子10の製造方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
第1の電極と第2の電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられた少なくとも発光層を有してなる機能層とを具備した有機EL素子の製造方法において、
前記機能層を構成する層を形成する工程は、
前記機能層を構成する少なくとも一つの層の形成材料として、再結晶性を有した低分子系材料からなる形成材料を用意し、この形成材料を溶媒に溶解して液状体に調整し、得られた液状体を前記第1の電極上の所定位置に配置する工程と、
前記液状体から、前記形成材料からなる結晶性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
3K007AB14
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
