特許
J-GLOBAL ID:200903031319856089

再利用光ディスクの作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松隈 秀盛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-049216
公開番号(公開出願番号):特開平7-192322
出願日: 1994年03月18日
公開日(公表日): 1995年07月28日
要約:
【要約】【目的】 光ディスクの基板を再利用して新たな光学的情報検出用凹凸を有する光ディスクを優れた光学的特性をもって確実に形成する。【構成】 光学的情報検出用凹凸、研磨擦傷等による微細凹凸11が存在する再利用光ディスク用基板20の表面に、この基板20と屈折率が同等の光重合性高分子材料層12を、微細凹凸11の高低差より充分厚く接着または塗布し、この光重合性高分子材料層12に新しい光学的情報検出用凹21を形成して目的とする光ディスクを得る。
請求項(抜粋):
光学的情報検出用凹凸、研磨擦傷等による微細凹凸が存在する再利用光ディスク用基板の表面に、該基板と屈折率が同等の光重合性高分子材料層を、上記基板表面の微細凹凸の高低差より充分厚く接着または塗布し、該光重合性高分子材料層に新たな光学的情報検出用凹凸を形成し、その後、上記光重合性高分子材料層を光照射により硬化させて目的とする光ディスクを得ることを特徴とする再利用光ディスクの作製方法。
IPC (2件):
G11B 7/26 531 ,  G11B 11/10 541
引用特許:
審査官引用 (4件)
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