特許
J-GLOBAL ID:200903031335596461

基板保持装置および基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 津川 友士
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-309156
公開番号(公開出願番号):特開2001-127030
出願日: 1999年10月29日
公開日(公表日): 2001年05月11日
要約:
【要約】【課題】 基板と基板支持部との間に液体が残留した場合においても、基板と残留液体とが接触することを防止する。【解決手段】 本体4aの表面に、基板3の配置間隔と等しいピッチで断面V字状の溝4bが形成されているとともに、各溝4bの最低部分と連続するスリット4cが形成されている。
請求項(抜粋):
処理槽(1)内において複数枚の基板(3)を互いに並列に立設状態で保持するようにした基板保持装置(4)において、複数枚の基板(3)のそれぞれの周縁部と係合して基板(3)を立設状態に保持する断面V字状の溝(4b)を有するとともに、各溝(4b)の底部に液体抜き用の空間(4c)(4d)を有することを特徴とする基板保持装置。
IPC (3件):
H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 3/04
FI (3件):
H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 648 D ,  B08B 3/04 A
Fターム (7件):
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CC12
引用特許:
審査官引用 (4件)
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