特許
J-GLOBAL ID：200903031347087392
インクジェット記録ヘッドの製造方法及び微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-077650
公開番号（公開出願番号）：特開2009-226845
出願日： 2008年03月25日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】被覆樹脂9に所望形状の微細構造(インク吐出口等)を精度良く形成できるインクジェット記録ヘッド(又は微細構造体)の製造方法を提供する。【解決手段】インク吐出エネルギー発生素子2を形成した基板1上にインク流路の型パターンを形成し、被覆樹脂9で被覆し、その後型パターンを溶解除去することによりインク流路を形成する方法において、被覆樹脂9に対してi線を用いたパターン露光を行なう工程を少なくとも有し、かつインク流路の型パターンの少なくとも一部(樹脂層(2)6)を、波長365nmの吸光度が0.1以上となるポジ型感光性レジスト又はジアゾナフトキノンを含有するi線用ポジ型感光性レジストにより形成するインクジェット記録ヘッド(又は微細構造体)の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
インク吐出エネルギー発生素子を形成した基板上にインク流路の型パターンを形成し、該型パターンを被覆樹脂で被覆し、その後、該型パターンを溶解除去することによりインク流路を形成するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
前記被覆樹脂に対してi線を用いたパターン露光を行なう工程を少なくとも有し、
かつ前記インク流路の型パターンの少なくとも一部を、波長365nmの吸光度が0.1以上となるポジ型感光性レジストにより形成することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
IPC (5件)：
B41J 2/16
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, G03F 7/022
, B81C 1/00
B41J3/04 103H
, B41J3/04 103A
, G03F7/022
, B81C1/00
2C057AF93
, 2C057AP12
, 2C057AP37
, 2C057AP47
, 2C057AQ04
, 2H025AA02
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB08
, 2H025CB29
, 2H025FA17
, 3C081AA01
, 3C081AA17
, 3C081BA23
, 3C081CA03
, 3C081CA14
, 3C081CA15
, 3C081CA23
, 3C081CA42
, 3C081DA10
, 3C081DA45
, 3C081EA35
