特許

J-GLOBAL ID：200903031386077540

面位置検出方法

発明者： 山田 雄一 ,  鵜澤 繁行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219039
公開番号（公開出願番号）：特開平10-047915
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】 検出表面の凹凸の影響を受けることなく被検出面の位置を高精度に検出する。【解決手段】 パターン構造を有する領域が形成された物体を面位置検出手段に対して相対走査して、前記領域内の複数の検出ポイントの面位置を前記面位置検出手段で検出する際、その検出結果を予め検出された前記面位置検出手段が面位置を検出する際の前記複数のポイント間のパターン構造の違いにより生じる各検出ポイント毎の誤差で補正する面位置検出方法において、前記面位置検出手段の検出タイミングと前記物体と面位置検出手段の相対位置とを同期させる。

請求項（抜粋）：

パターン構造を有する領域が形成された物体を面位置検出手段に対して相対走査して、前記領域内の複数の検出ポイントの面位置を前記面位置検出手段で検出する際、その検出結果を予め検出された前記面位置検出手段が面位置を検出する際の前記複数のポイント間のパターン構造の違いにより生じる各検出ポイント毎の誤差で補正する面位置検出方法において、前記相対走査する際の前記面位置検出手段の検出タイミングと前記物体と面位置検出手段の相対位置とを同期させることを特徴とする面位置検出方法。

IPC (5件)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/26 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

G01B 11/00 A ,  G01B 11/26 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 F ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 526 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 撮像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-281833   出願人：日立電子株式会社
• 特開平4-354320
  
• 位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-304698   出願人：株式会社ニコン