特許

J-GLOBAL ID：200903031388471130

ゴム系複合材の製造方法

発明者： 沈 永健 ,  吉川 雅人 ,  杉山 秀夫 ,  草野 行弘 ,  内藤 壽夫
出願人/特許権者： 株式会社ブリヂストン
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-123166
公開番号（公開出願番号）：特開平8-296032
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【構成】 基材表面に酸化コバルト薄膜を形成したのち、該薄膜上にゴム組成物を形成し、次いでこのゴム組成物を加硫してゴム系複合材を製造する方法において、上記酸化コバルト薄膜を、コバルトをターゲットとし、酸素分子を有するガスを含有する不活性ガスの存在下においてターゲットにDC電源を用いてパワーを投入した際、ターゲット及び基材間の電圧が急激に上昇する変移点以上のパワーでスパッタリングすることにより形成することを特徴とするゴム系複合材の製造方法。【効果】 本発明によれば、酸化コバルトの酸化度を簡単かつ確実にコントロールしてこれを高め、基材とゴム層とを強固に接合することができ、ゴム複合体の耐湿熱劣化性を大幅に向上させることができるものである。また、本方法は従来方法と比較して1工程でCoOx薄膜を装置依存性なく作製することができる。

請求項（抜粋）：

基材表面に酸化コバルト薄膜を形成したのち、該薄膜上にゴム組成物を形成し、次いでこのゴム組成物を加硫してゴム系複合材を製造する方法において、上記酸化コバルト薄膜を、コバルトをターゲットとし、酸素分子を有するガスを含有する不活性ガスの存在下においてターゲットにDC電源を用いてパワーを投入した際、ターゲット及び基材間の電圧が急激に上昇する変移点以上のパワーでスパッタリングすることにより形成することを特徴とするゴム系複合材の製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/35

FI (3件)：

C23C 14/08 J ,  C23C 14/34 L ,  C23C 14/35 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-087311
  
• 特開平2-080560
  
• 高速成膜方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-168410   出願人：旭硝子株式会社