特許
J-GLOBAL ID：200903031405365004
拡散材料の表面反応過程分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
高橋 詔男
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-220387
公開番号（公開出願番号）：特開2004-061318
出願日： 2002年07月29日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】試料へ注入される水素の量を制御することができる拡散材料の表面反応過程分析装置を提供すること。【解決手段】水素ガスを拡散し得る試料(拡散材料)1を互いに気密状態で挟んで配置する吸蔵室2及び放出室3と、吸蔵室2内に露出した試料1の表面に前記水素ガスのプラズマを注入するプラズマ注入装置と、前記拡散材料の表面を分析する分析手段とを備える。プラズマ注入装置としては、イオンガン8を使用することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
水素ガスを拡散し得る拡散材料を互いに気密状態で挟んで配置する吸蔵室及び放出室と、吸蔵室内に露出した前記拡散材料表面に前記水素ガスのプラズマを注入するプラズマ注入装置と、前記拡散材料の表面を分析する分析手段とを備えることを特徴とする拡散材料の表面反応過程分析装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
2G001AA01
, 2G001AA05
, 2G001BA04
, 2G001BA08
, 2G001CA01
, 2G001CA03
, 2G001CA10
, 2G001DA06
, 2G001GA09
, 2G001KA01
, 2G001LA20
, 2G001MA05
, 2G001PA07
, 2G001RA10
, 2G001RA20
