特許
J-GLOBAL ID:200903079366379518
拡散材料の表面反応過程分析方法及びその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤田 考晴 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-350828
公開番号(公開出願番号):特開2001-165851
出願日: 1999年12月09日
公開日(公表日): 2001年06月22日
要約:
【要約】【課題】 不純物混入のおそれなく、拡散材料の反応状態を正確に解析する。【解決手段】 吸蔵室2での試料1の反応前後の状態と、放出室3での反応前後の状態とをそれぞれ計測し、かつ分析するので、試料1に如何なる反応が起き、またこの反応により如何なる物質が生成され、さらに反応の前後で試料が如何なる状態に変化したかを分析でき、しかも吸蔵室2と試料1と放出室3間は真空状態に気密保持され続けるので、不純物が混入するおそれが何等なく、試料における反応前後の状況を正確に計測・分析でき、正確な計測・分析データを得ることができ、反応過程を明確に解析できる。
請求項(抜粋):
吸蔵室と放出室との境界位置に、水素又は重水素の何れか一方のガスを拡散し得る拡散材料を互いに気密状態で挟んで配置し、前記ガスを吸蔵室から拡散材料中を経て放出室に放出させる拡散材料の表面反応過程分析方法であって、吸蔵室及び放出室を真空引きする工程と、真空状態の吸蔵室内に前記ガスを充填する工程と、放出室内のガス状核反応生成物を検出する工程、又は/及び、拡散材料のガス吸蔵側表面を分析する工程とを有することを特徴とする拡散材料の表面反応過程分析方法。
IPC (4件):
G01N 21/27
, G01N 23/227
, G01N 27/62
, G21B 1/00
FI (4件):
G01N 21/27 B
, G01N 23/227
, G01N 27/62 V
, G21B 1/00 Y
Fターム (45件):
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001AA10
, 2G001BA06
, 2G001BA08
, 2G001BA09
, 2G001BA12
, 2G001BA16
, 2G001BA28
, 2G001BA30
, 2G001CA01
, 2G001CA02
, 2G001CA03
, 2G001CA04
, 2G001CA05
, 2G001DA02
, 2G001DA06
, 2G001EA04
, 2G001GA03
, 2G001GA16
, 2G001JA14
, 2G001KA02
, 2G001KA13
, 2G001KA20
, 2G001NA01
, 2G001NA03
, 2G001NA07
, 2G001NA08
, 2G001PA07
, 2G001QA01
, 2G001RA03
, 2G001RA04
, 2G001RA05
, 2G001RA20
, 2G001SA10
, 2G059AA05
, 2G059BB08
, 2G059DD16
, 2G059EE02
, 2G059EE12
, 2G059FF06
, 2G059GG00
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059KK01
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
発熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-267041
出願人:松下電器産業株式会社
-
化学状態の分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-283294
出願人:住友電気工業株式会社
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