特許

J-GLOBAL ID：200903031420616293

放射性薬液合成装置のメンテナンス方法及び洗浄機能付放射性薬液合成装置

発明者： 田中 栄士
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-031390
公開番号（公開出願番号）：特開2007-212240
出願日： 2006年02月08日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：

【課題】放射性薬液の取扱者の被爆量を低く維持しつつ、放射性薬液の効率的な合成を可能とする放射性薬液合成装置のメンテナンス方法、及び洗浄機能付放射性薬液合成装置を提供する。【解決手段】放射性薬液の合成を行う反応容器16を含む取り外しモジュール12と、取り外しモジュール12が設置される固設モジュール14と、を備えた放射性薬液合成装置10のメンテナンス方法である。この方法では、反応容器16から合成した放射性薬液を排出した後、固設モジュール14に取り外しモジュール12を設置したままで、反応容器16内に洗浄液を導入し、導入した洗浄液により反応容器16内を洗浄し、反応容器16から洗浄液を排出した後、取り外しモジュール12を交換する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性薬液の合成を行う反応容器を含む取り外しモジュールと、前記取り外しモジュールが設置される固設モジュールと、を備えた放射性薬液合成装置のメンテナンス方法であって、 前記反応容器から合成した放射性薬液を排出した後、前記固設モジュールに前記取り外しモジュールを設置したままで、該反応容器内に洗浄液を導入し、 導入した洗浄液により前記反応容器内を洗浄し、 前記反応容器から洗浄液を排出した後、前記取り外しモジュールを交換する、 ことを特徴とする放射性薬液合成装置のメンテナンス方法。

IPC (1件)：

G01T 1/161

FI (2件)：

G01T1/161 D ,  G01T1/161 A

Fターム (7件)：

2G088EE02 ,  2G088FF07 ,  2G088HH06 ,  2G088HH08 ,  2G088JJ35 ,  2G088JJ36 ,  2G088JJ37

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 放射性医薬品の合成装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-552588   出願人：イヨンベアムアプリカスィヨンエッス.アー.