特許
J-GLOBAL ID:200903031430191738
超臨界二酸化炭素による移植用生体組織の脱細胞処理
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
赤岡 迪夫
, 赤岡 和夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-296067
公開番号(公開出願番号):特開2007-105081
出願日: 2005年10月11日
公開日(公表日): 2007年04月26日
要約:
【課題】処理時間が短く、操作が簡単な移植用生体組織の脱細胞化方法を提供する。【解決手段】移植用生物軟組織を、組織の脱細胞および望ましくない成分の除去が達成されるまで、超臨界二酸化炭素と生理的に許容し得る有機溶媒の混合媒体と接触させることを含む、移植用生物軟組織の処理方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
移植用生体軟組織を、組織の脱細胞および望ましくない成分の除去が達成されるまで、超臨界二酸化炭素と生理的に許容し得る有機溶媒の混合媒体と接触させることを含む、移植用生体軟組織の処理方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (16件):
4C081AB13
, 4C081AB17
, 4C081AB21
, 4C081AB31
, 4C081AB34
, 4C081CD34
, 4C081EA01
, 4C097AA14
, 4C097AA15
, 4C097AA24
, 4C097AA27
, 4C097BB01
, 4C097DD15
, 4C097FF04
, 4C097MM01
, 4C097MM05
引用特許: