パターン描画装置、パターン描画体の製造方法、該パターン描画体を備えた装置の製造方法。

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲葉良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217152
公開番号（公開出願番号）：特開2003-029419
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：

【要約】【課題】 CPUの演算処理負担が少ない描画を可能とするパターン描画装置を提供する。【解決手段】パターン描画装置は、パターンを描画すべき基板(32)上に同心円状に配列される複数のトラックを形成してパターンを描画するパターン描画装置において、1のトラック上の少なくとも2箇所に各トラック毎の基本となる基本画素列(軌跡1、軌跡2)を正あるいは逆に並べることを繰り返し、これを連続な複数トラックについて行うことによって、パターンを形成する。

請求項（抜粋）：

パターンを描画すべき基板上に同心円状に配列される複数のトラックを形成してパターンを描画するパターン描画装置であって、1のトラック上の少なくとも2箇所に各トラック毎の基本となる基本画素列を正あるいは逆に並べることを繰り返し、これを連続な複数トラックについて行うことによって、前記パターンを形成する、パターン描画装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 505 , H01L 21/30 529

Fターム (10件)：

2H097AA03 , 2H097AB07 , 2H097AB10 , 2H097BB10 , 2H097CA03 , 2H097CA05 , 2H097CA17 , 2H097FA09 , 2H097LA20 , 5F046BA07

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-012150
レーザ描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-175670 出願人：日立ビアメカニクス株式会社
特開平4-064933

全件表示

前のページに戻る