特許
J-GLOBAL ID：200903031567787050

有機塩素化合物処理方法及び装置

発明者：
西川 英一

西川 英一 について

, 
三木 康平

三木 康平 について

, 
佐藤 二朗

佐藤 二朗 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-068929
公開番号（公開出願番号）：特開2001-252638
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：
【要約】【課題】 被処理物、特に、被処理物中の無機系固形分に含まれるダイオキシン類等の有機塩素化合物を簡易に且つ十分に分解除去でき、処理コストを低減可能な有機塩素化合物処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 本発明による有機塩素化合物処理方法は、有機塩素化合物を含む無機系固形分を含有する被処理物Wが供給される溶解槽11と、溶解槽11の後段に順次設置された固液分離槽12、紫外線照射部21,22及び吸着槽31とを備えた処理装置1を用いて好適に実施され、無機系固形分を酸Aに溶解する溶解工程と、その無機系固形分が溶解されたその酸溶液Wa中の有機塩素化合物を分解及び/又は除去する分解除去工程とを備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
有機塩素化合物を含む無機系固形分を含有する被処理物中の該無機系固形分を酸に溶解する溶解工程と、前記無機系固形分が溶解された酸溶液中の前記有機塩素化合物を分解及び/又は除去する分解除去工程と、を備えることを特徴とする有機塩素化合物処理方法。
IPC (10件)：
B09B 3/00 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/00
FI (9件)：
A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78 ,  C07B 61/00 D ,  C07B 63/00 F ,  B09B 3/00 304 G ,  B09B 3/00 304 K
Fターム (59件)：
2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BC01 ,  2E191BD11 ,  2E191BD17 ,  4D004AA37 ,  4D004AA41 ,  4D004AB06 ,  4D004CA13 ,  4D004CA15 ,  4D004CA34 ,  4D004CA36 ,  4D004CA41 ,  4D004CA43 ,  4D004CA47 ,  4D004CB27 ,  4D004CC01 ,  4D004CC12 ,  4D004DA03 ,  4D004DA20 ,  4D037AA11 ,  4D037AA12 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB01 ,  4D037BB02 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA06 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D038AA08 ,  4D038AB14 ,  4D038BA04 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB16 ,  4D050AA02 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AB07 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15 ,  4H006AA04 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006AC26 ,  4H006BA95 ,  4H006BC16 ,  4H006BE31
引用特許：
審査官引用 (5件)
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