特許

J-GLOBAL ID：200903031591396917

真空処理方法

発明者： 村山 仁 ,  青池 達行 ,  白砂 寿康 ,  田澤 大介 ,  秋山 和敬 ,  細井 一人 ,  阿部 幸裕 ,  大塚 崇志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-142162
公開番号（公開出願番号）：特開2001-326182
出願日： 2000年05月15日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【課題】 排気部と分離可能な真空処理容器部からなる装置を利用する真空処理に適し、生産の柔軟性を損なうことなく、また、被処理物上へのダスト付着を防止して真空処理物の良品率向上を達成し、さらには真空処理特性のロット間バラツキの抑制をも達成可能とする新規な手段を具えた真空処理方法の提供。【解決手段】 被処理物を設置し、予め減圧して移動した可動真空処理容器部101を、排気部102と接続、連通して真空処理を行う時、真空処理容器部に設けた第一の開口部を排気部に設けた第二の開口部と接続し、開閉可能な第一の開口部の真空封止弁108を開く際、この開弁により連通される別の減圧空間の圧力より、前記減圧下の真空処理容器106内圧を高くするという手段を具えた真空処理方法。

請求項（抜粋）：

真空処理容器内に被処理物を設置し、減圧下、前記真空処理容器とは別の減圧空間と前記真空処理容器を連通した状態において、前記被処理物に真空処理工程の少なくとも1工程を施す真空処理方法であって、前記真空処理容器は、少なくとも開閉可能な第1の開口部を有し、前記真空処理容器とは別の減圧空間は、少なくとも第2の開口部を有し、前記真空処理容器とは別の減圧空間と前記真空処理容器との連通は、前記第1の開口部と第2の開口部とを密に接続して、その後に前記開閉可能な第1の開口部を開状態とした際になされ、前記接続を行う際、被処理物を設置した前記真空処理容器を移動させて、前記第1の開口部と第2の開口部とを密に接続可能な配置とし、両者の接続を行い、前記移動と接続を行う際、前記第1の開口部は閉ざされた状態とし、かつ前記真空処理容器内部は減圧状態とし、前記真空処理工程の少なくとも1工程を施すに際し、互いに開口部を接続された前記別の減圧空間と前記真空処理容器との連通は、前記別の減圧空間の内部も減圧した状態において、接続の際は閉ざされていた前記第1の開口部を開くことによりなされ、前記移動と接続の間減圧状態とされている前記真空処理容器の内圧は、前記第1の開口部を開き連通を達成する際、前記減圧した状態とされている別の減圧空間の内圧よりも高くすることを特徴とする真空処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455 ,  H01L 21/302 N

Fターム (25件)：

4K030JA09 ,  4K030KA11 ,  4K030LA17 ,  5F004AA15 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC16 ,  5F045AD06 ,  5F045AE19 ,  5F045AF07 ,  5F045AF10 ,  5F045BB08 ,  5F045BB15 ,  5F045CA16 ,  5F045DA65 ,  5F045DP28 ,  5F045EE05 ,  5F045EF20 ,  5F045EG02 ,  5F045EG03 ,  5F045EH15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 真空処理装置及び真空処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-081229   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平4-165076
  
• 特開平4-165076