5核体ノボラック化合物およびその用途

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-159711
公開番号（公開出願番号）：特開平10-007611
出願日： 1996年06月20日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：

【要約】【課題】レジストなどの感光剤として、またはその前駆体として有用な化合物を提供し、その感光剤を用いてレジスト性能の向上を図る。【解決手段】式(I)で示される5核体ノボラック化合物が提供される。式中、R1 〜R10はそれぞれ独立に、水素、水酸基または炭素数1〜6のアルキルを表す。この化合物は、2,4-ビス(2-ヒドロキシ-3-ヒドロキシメチル-5-メチルベンジル)-3,6-ジメチルフェノールと、式(I)の両末端のベンゼン環に相当する芳香族化合物とを反応させることにより製造できる。また、これをキノンジアジドスルホン酸エステル化して、感光剤とすることができる。この感光剤は、アルカリ可溶性ノボラック樹脂と混合して、レジスト組成物となる。

請求項（抜粋）：

式(I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 およびR10はそれぞれ独立に、水素、水酸基または炭素数1〜6のアルキルを表す)で示される5核体ノボラック化合物。

IPC (4件)：

C07C 39/15 , C07C309/76 , G03F 7/022 , G03F 7/023 511

FI (4件)：

C07C 39/15 , C07C309/76 , G03F 7/022 , G03F 7/023 511

引用特許：

出願人引用 (4件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346400 出願人：住友化学工業株式会社
特開平3-228057
特開平2-285351

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審査官引用 (7件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346400 出願人：住友化学工業株式会社
特開平3-228057
特開平3-228057

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