特許
J-GLOBAL ID：200903031637686257

マイクロコンタクトプリント方法及び装置

発明者：
横山 泰顕

横山 泰顕 について


出願人/特許権者：
株式会社ナノテック

株式会社ナノテック について


代理人 (2件)： 井澤 洵 ,  井澤 幹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-364840
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129791
出願日： 2003年10月24日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 マイクロコンタクトプリント法による有機半導体デバイスの製造や、DNAに関する研究等を含む、ナノ構造構築法の利用と開発を容易化する。【解決手段】 並置された第1ステーション並びに第2ステーション、それらの間を移動する移動体及びいずれか一方のステーションに配置可能な光源装置を備えており、いずれか一方のステーションにて光源装置を用いて試料を露光し、スタンプのマスターを作製し、移動体に、マスターから複製したスタンプを配置し、他方のステーションにてスタンプをスタンプ台に接離させることによりインクを補充し、一方のステーションにて、そこに配置された試料に対してスタンプを接離させることにより、スタンプの持つパターンを試料に転写可能とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ナノ構造を構築するための、マイクロコンタクトプリント方法であって、並置された第1ステーション並びに第2ステーション、それらの間を移動する移動体及びいずれか一方のステーションに配置可能な光源装置、を備えており、いずれか一方のステーションにて光源装置を用いて試料を露光し、スタンプのマスターを作製し、移動体に、マスターから複製したスタンプを配置し、他方のステーションにてスタンプをスタンプ台に接離させることによりインクを補充し、いずれか一方のステーションにて、そこに配置された試料に対してスタンプを接離させることにより、スタンプの持つパターンを試料に転写可能としたことを特徴とするマイクロコンタクトプリント方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  B81C5/00 ,  G03F7/20 ,  H01L29/06
FI (4件)：
H01L21/30 502D ,  B81C5/00 ,  G03F7/20 501 ,  H01L29/06 601N
Fターム (3件)：
2H097AA20 ,  2H097LA10 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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