特許

J-GLOBAL ID：200903031665279667

荷電粒子ビーム装置およびその運転方法

発明者： 平本 和夫 ,  秋山 浩 ,  松田 浩二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-227759
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118204
出願日： 1997年08月25日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子ビームの損失を低減した荷電粒子ビーム装置とその運転方法を提供する。【解決手段】患部形状等の情報に基づき予め、演算装置131でビームの水平方向の照射点と必要な線量を定めておく。水平方向の照射点の間隔は、散乱体300で広げたビームの径の半分程度以下にすることが望ましい。照射位置設定用の電磁石220,221の電源装置160を制御装置132で制御する。【効果】荷電粒子ビームの損失を少なくして、均一な照射野を形成することができる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子加速器を備え、前記荷電粒子加速器によって供給される荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム装置において、荷電粒子ビームの径を拡大する散乱体と、前記荷電粒子ビームの出射および停止を切り替える出射切り替え手段と、前記荷電粒子ビームの照射位置を設定する電磁石と、前記荷電粒子ビームを停止中に前記電磁石を制御して前記照射位置を変更させる制御装置とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3件)：

A61N 5/10 ,  G21K 5/04 ,  H05G 2/00

FI (4件)：

A61N 5/10 J ,  G21K 5/04 A ,  G21K 5/04 S ,  H05G 1/00 L

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 放射線照射方法及び放射線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058523   出願人：株式会社日立製作所
• 電子ビーム露光装置および電子ビーム偏向方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-287896   出願人：日本電気株式会社