特許

J-GLOBAL ID：200903031692119876

生産支援システム

発明者： 森井 敏博 ,  岩崎 武正
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003081
公開番号（公開出願番号）：特開平8-192341
出願日： 1995年01月12日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【構成】1-1はラインの通常運転を実行するサブシステムである。1-2はラインに異常事象が発生した場合に、異常回復処理専門に機能するサブシステムである。ラインに異常事象が発生した場合、1-2のラインの通常運転を実行するサブシステムが1-1のラインの通常運転を実行するサブシステムのクライアントとして動作し、適切な回復処理を実行する。【効果】生産支援システムを用いた場合、通常のライン運転機能を改造することなく、ラインで発生する各種異常事象への対応を拡張することが可能となる。

請求項（抜粋）：

生産を支援するシステムにおいて、ラインに異常事象が発生した場合に、異常回復処理専門に機能するサブシステムが、前記ラインの通常運転を実行する前記各サブシステムのクライアントとして動作し、適切な回復処理を実行することを特徴とする生産支援システム。

IPC (5件)：

B23Q 41/08 ,  G05B 9/02 ,  G06F 17/60 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/50

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-201502
  
• 分散制御システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-039643   出願人：株式会社日立製作所
• レーザーCVD薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-298871   出願人：大阪瓦斯株式会社