特許
J-GLOBAL ID：200903031742754675
マイクロレンズの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162969
公開番号（公開出願番号）：特開平8-001809
出願日： 1994年06月22日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：
【要約】【目的】 CCD形撮像デバイス上にマイクロレンズを簡単な工程で形成する。【構成】 CCD形撮像デバイス11の表面平坦化層19上にポジ型のレンズ材レジスト層20を塗布して形成する。次に、レンズ形成領域に対応する部分にマスクパターン21aを有するフォトマスク21を用いて露光する。この場合の露光は、焦点を適宜にずらして行う。すると、図1(B)において梨点で示すように、光の回り込みの強度分布に応じて、レンズ形成領域に対応する部分におけるレンズ材レジスト層20の表面側が逆凹レンズ状に露光される。このため、この後現像すると、表面が曲面となった凸レンズからなるマイクロレンズ20aが形成される。したがって、露光して現像するだけの簡単な工程で、マイクロレンズ20aを形成することができる。
請求項（抜粋）：
レンズ材レジスト層を所定のマスクパターンを有するフォトマスクを用いて焦点をずらして露光して現像することにより、表面を曲面とされた凸レンズからなるマイクロレンズを形成することを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
IPC (3件)：
B29D 11/00
, G02B 3/00
, G03B 27/34
