特許
J-GLOBAL ID：200903031783171277
露光用マスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-128666
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319569
出願日： 1997年05月19日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 遮光膜を通過する光に起因する焦点深度の低下等を抑制することができ、レベンソン型位相シフト法の持つ本来の性能を発揮させる。【解決手段】 石英からなる透光性基板601と、この透光性基板601上に形成され一部に開口パターン605を有するCrOx からなる遮光膜602と、この遮光膜602の隣接する開口パターン605で基板601をそれぞれ堀込み、隣接する開口パターン605の一方を透過する光と他方を透過する光に対して180度の位相差を与えるための位相シフト領域とを備えたレベンソン型の位相シフトマスクにおいて、遮光膜602は、遮光膜602を通過する光が遮光膜602と同じ厚さの大気を通過する光に対して相対的に180度の位相差を有するように形成されている。
請求項（抜粋）：
透光性基板と、この透光性基板上に形成され一部に開口パターンを有する遮光膜と、この遮光膜の開口パターンを透過する光に対して隣接する開口パターンで概略(2m-1)π(mは正の整数)の位相差を与えるための位相シフト手段とを備えた露光用マスクにおいて、前記遮光膜は、該遮光膜を通過する光が該遮光膜と同じ厚さの光伝達媒体を通過する光に対して相対的に概略nπ(nは整数)の位相差を有するように形成されてなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
