特許
J-GLOBAL ID：200903031790677550
標準試料作製方法および標準試料
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-150958
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344424
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 ウェハ上の一部にのみ汚染物質が存在し、複雑な設備は必要とせずに簡単な作製方法でありながら、正しく蛍光X線の強度測定を行うことができる標準試料作製方法および標準試料を提供する【解決手段】 汚染物質3を水よりも表面張力が小さく沸点が低い溶媒で希釈してなる汚染液4を試料表面2に滴下し、この汚染液4を乾燥することにより標準試料1を作製する。
請求項（抜粋）：
汚染物質を水よりも表面張力が小さく沸点が低い溶媒で希釈してなる汚染液を試料表面に滴下し、この汚染液を乾燥することにより標準試料を作製する標準試料作製方法。
IPC (4件)：
G01N 1/00 102
, G01N 1/28
, G01N 21/62
, G01N 23/223
G01N 1/00 102 B
, G01N 21/62 A
, G01N 23/223
, G01N 1/28 L
