特許

J-GLOBAL ID：200903031834803940

熱処理装置

発明者： 楠田 達文 ,  今岡 康浩 ,  村山 博美 ,  山本 範夫 ,  森 直人 ,  葭原 陽子
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211135
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055821
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】フラッシュランプを使用した熱処理装置であっても容易に照射強度を調節することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】複数のフラッシュランプ69を備える光源5から閃光を照射することによって、熱拡散板73および加熱プレート74に保持された半導体ウェハーWに対するフラッシュ加熱を行う。このときの半導体ウェハーWを保持する熱拡散板73および加熱プレート74と光源5との間の照射距離は予め定められた照射強度が得られるように調整される。また、熱拡散板73および加熱プレート74を昇降させることによってそれらと光源5との間の照射距離を変更或いは補正することもできる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基板に対して閃光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、 複数のフラッシュランプを有する光源と、 基板を保持するとともに、該基板の予備加熱を行うアシスト加熱機構を備える保持手段と、 前記光源から閃光を照射するときの基板を保持している前記保持手段と前記光源との間の照射距離を調整する調整手段と、 を備えることを特徴とする熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L21/26 ,  H01L21/68

FI (2件)：

H01L21/26 J ,  H01L21/68 F

Fターム (8件)：

5F031CA02 ,  5F031HA37 ,  5F031HA58 ,  5F031JA45 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA30 ,  5F031MA32

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭57-162340
  
• 特開平3-278523
  
• マルチゾーン照明器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088840   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 熱処理方法、熱処理装置及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-038236   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (3件)

• 特開昭57-162340
  
• 特開平3-278523
  
• マルチゾーン照明器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088840   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド