特許
J-GLOBAL ID：200903031938787130

セラミックスラリー、及びその製造方法、並びにセラミック

発明者：
小高 文雄

小高 文雄 について

, 
宮本 太郎

宮本 太郎 について

, 
高橋 佳智

高橋 佳智 について


出願人/特許権者：
株式会社ブリヂストン

株式会社ブリヂストン について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-310818
公開番号（公開出願番号）：特開2001-130968
出願日： 1999年11月01日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：
【要約】【課題】均質で高密度なセラミックを得ることができる均一なセラミックスラリーを、簡易に、且つ短時間で製造することができるセラミックスラリーの製造方法、これにより得られる均一なセラミックスラリー、及び均質で高密度なセラミックを提供すること。【解決手段】 セラミック粉体と分散媒とを、超音波を照射して混合する工程を有することを特徴とするセラミックスラリーの製造方法、及びこれにより得られるセラミックスラリー、及びセラミック。
請求項（抜粋）：
セラミック粉体と分散媒とを、超音波を照射して混合する工程を有することを特徴とするセラミックスラリーの製造方法。
IPC (3件)：
C04B 35/622 ,  B01F 11/02 ,  C04B 35/626
FI (3件)：
B01F 11/02 ,  C04B 35/00 D ,  C04B 35/58 102 R
Fターム (16件)：
4G001BA22 ,  4G001BB22 ,  4G001BC01 ,  4G001BC03 ,  4G001BC42 ,  4G001BD11 ,  4G030AA47 ,  4G030BA18 ,  4G030BA33 ,  4G030GA05 ,  4G030GA14 ,  4G030GA17 ,  4G030GA18 ,  4G030GA29 ,  4G030PA14 ,  4G036AB21
引用特許：
審査官引用 (6件)
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