特許
J-GLOBAL ID：200903031956478764

偏光回折素子の製造方法

発明者：
西村 涼

西村 涼 について


出願人/特許権者：
日石三菱株式会社

日石三菱株式会社 について


代理人 (1件)： 森田 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-159489
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347034
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 回折光自体が円偏光や直線偏光のような特定の偏光を生じる偏光回折素子の製造方法を提供する。【解決手段】 配向支持基板上にGPC(ポリスチレン換算)で測定した重量平均分子量Mwが1000〜10万、分子量分布(Mw/Mn;Mnは数平均分子量)が5以下、対数粘度が0.05〜2.0(フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)混合溶媒において濃度0.5g/dl(温度30°C))、ガラス転移温度(Tg)が200°C以下、かつ液晶相から等方相への転移温度(Ti)が40°C以上である高分子液晶を必須成分とするフィルム材料からなるコレステリック配向フィルムを形成する第1工程、該コレステリック配向フィルム表面に回折素子基板の回折パターンを転写する第2工程、及び回折パターンが転写されたコレステリック配向フィルム面と支持基板とを接着剤層を介して積層する第3工程、を含む偏光回折素子の製造方法である。
請求項（抜粋）：
配向支持基板上にGPC(ポリスチレン換算)で測定した重量平均分子量Mwが1000〜10万、分子量分布(Mw/Mn;Mnは数平均分子量)が5以下、対数粘度が0.05〜2.0(フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)混合溶媒において濃度0.5g/dl(温度30°C))、ガラス転移温度(Tg)が200°C以下、かつ液晶相から等方相への転移温度(Ti)が40°C以上である高分子液晶を必須成分とするフィルム材料からなるコレステリック配向フィルムを形成する第1工程、該コレステリック配向フィルム表面に回折素子基板の回折パターンを転写する第2工程、及び回折パターンが転写されたコレステリック配向フィルム面と支持基板とを接着剤層を介して積層する第3工程、を含む偏光回折素子の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18
FI (2件)：
G02B 5/30 ,  G02B 5/18
Fターム (7件)：
2H049AA02 ,  2H049BA02 ,  2H049BA03 ,  2H049BA24 ,  2H049BB44 ,  2H049BB61 ,  2H049BC22
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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