特許

J-GLOBAL ID：200903031959111985

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 水谷 一良 ,  阿出川 豊 ,  上西 一也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032454
公開番号（公開出願番号）：特開2002-236354
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 電子線またはX線の使用に対して感度、解像力に優れ、矩形なプロファイルを有し、且つラフネス及びレジスト液中のパーティクル数を低減させた化学増幅系ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、酸により架橋する架橋剤、有機塩基性化合物及び有機溶剤を含有する化学増幅系ネガ型レジスト組成物であり、酸により架橋する架橋剤は、分子内にベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量は2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している化合物である。

請求項（抜粋）：

少なくとも下記(A)、(B)、(C1)、(D)、及び(E)を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。(A)アルカリ可溶性樹脂(B)酸発生剤(C1)分子内にベンゼン環原子団を3〜10個含むフェノール誘導体であり、分子量2000以下、ヒドロキシメチル基及びアルコキシメチル基を分子内にそれぞれ1個以上有し、それらを少なくともいずれかのベンゼン環原子団に結合している、酸の作用により架橋反応を示す架橋剤(D)有機塩基性化合物(E)有機溶剤

IPC (6件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  C08K 5/00 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  C08K 5/00 ,  C08L101/14 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (31件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB42 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4J002BC121 ,  4J002BH011 ,  4J002CC031 ,  4J002CC101 ,  4J002EB116 ,  4J002EJ047 ,  4J002EJ067 ,  4J002EN028 ,  4J002ER028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-314816   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型画像記録材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-164820   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型画像記録材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-030882   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-227792   出願人：富士写真フイルム株式会社