特許
J-GLOBAL ID:200903031968445799

誘電体膜の製造方法及び圧電素子の製造方法並びに液体噴射ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-164008
公開番号(公開出願番号):特開2007-335537
出願日: 2006年06月13日
公開日(公表日): 2007年12月27日
要約:
【課題】誘電体膜の結晶化を均一に行うことができる誘電体膜の製造方法及び圧電素子の製造方法並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】焼成工程では、誘電体前駆体膜形成工程によって少なくとも1層の脱脂された誘電体前駆体膜71を基板110の一方面の周縁部を含む全面に亘って形成してから焼成する第1の焼成工程と、第1の焼成工程以降の焼成工程で、誘電体前駆体膜形成工程によって脱脂された誘電体前駆体膜を基板110の一方面の周縁部以外の領域に形成してから焼成する第2の焼成工程とを有する。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基板の一方面に有機金属化合物のゾルを塗布して誘電体前駆体膜を形成する塗布工程と、該塗布工程で塗布された前記誘電体前駆体膜を加熱して乾燥する乾燥工程と、該乾燥工程で乾燥された前記誘電体前駆体膜を加熱して脱脂する脱脂工程とを具備する誘電体前駆体膜形成工程を少なくとも1回以上実施し、少なくとも1層以上の脱脂された前記誘電体前駆体膜を形成した後、前記誘電体前駆体膜を加熱して誘電体膜とする焼成工程を具備する誘電体膜形成工程を複数回繰り返し行って、積層された誘電体膜を形成する際に、 前記焼成工程では、前記誘電体前駆体膜形成工程によって少なくとも1層の脱脂された前記誘電体前駆体膜を前記基板の一方面の周縁部を含む全面に亘って形成してから焼成する第1の焼成工程と、当該第1の焼成工程以降の前記焼成工程で、前記誘電体前駆体膜形成工程によって、脱脂された前記誘電体前駆体膜を前記基板の一方面の周縁部以外の領域に形成してから焼成する第2の焼成工程とを有することを特徴とする誘電体膜の製造方法。
IPC (4件):
H01L 41/22 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/18
FI (5件):
H01L41/22 Z ,  H01L41/08 J ,  H01L41/18 101C ,  H01L41/18 101D ,  H01L41/18 101Z
引用特許:
出願人引用 (2件)

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