特許

J-GLOBAL ID：200903031974104413

研磨終点検出装置及びそれを備えたCMP装置

発明者： 杉山 慎一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-105992
公開番号（公開出願番号）：特開2001-287160
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】【課題】 被研磨基板の同一膜種の研磨終点をより的確に検出することにより、研磨工程のスループットを向上できる研磨終点検出装置及びそれを備えたCMP装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る研磨終点検出装置は、CMP研磨する際に研磨終点を検出するものである。この研磨終点検出装置は、研磨クロス13を載置するターンテーブル11の隣に配置され、研磨時にウエハ15を支持する支持台21と、この支持台21に設けられた光学用窓23と、この光学用窓23の下方に配置され、ウエハ15の研磨面に終点検出用の光を照射する発光素子20と、上記光学用窓23の下方に配置され、上記発光素子20により上記研磨面に照射された光の反射光を受光する受光素子と、この受光素子により受光した光の変化を検知する検知手段と、を具備するものである。

請求項（抜粋）：

CMP研磨する際に研磨終点を検出する研磨終点検出装置であって、研磨クロスを載置する回転テーブルの隣に配置され、研磨時に被研磨基板を支持する支持台と、この支持台に設けられた光学用窓と、この光学用窓の下方に配置され、被研磨基板の研磨面に終点検出用の光を照射する発光素子と、上記光学用窓の下方に配置され、上記発光素子により上記研磨面に照射された光の反射光を受光する受光素子と、この受光素子により受光した光の変化を検知する検知手段と、を具備することを特徴とする研磨終点検出装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 ,  H01L 21/304 622 ,  G01B 11/30 102

FI (3件)：

B24B 37/04 K ,  H01L 21/304 622 S ,  G01B 11/30 102 Z

Fターム (20件)：

2F065AA50 ,  2F065CC19 ,  2F065DD05 ,  2F065FF44 ,  2F065GG15 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ28 ,  2F065TT06 ,  3C058AB01 ,  3C058AB04 ,  3C058AC02 ,  3C058BA01 ,  3C058BA09 ,  3C058BA14 ,  3C058CB03 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 研磨装置及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-289386   出願人：キヤノン株式会社