特許
J-GLOBAL ID：200903032011257954

酸化物焼結体、ターゲット、及びそれを用いて得られる酸化物透明導電膜ならびにその製造方法

発明者：
阿部 能之

阿部 能之 について

, 
中山 徳行

中山 徳行 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (1件)： 河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-144001
公開番号（公開出願番号）：特開2007-314364
出願日： 2006年05月24日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】実質的にスズ、亜鉛、および酸素からなる酸化物焼結体、高い直流電力を投入してもクラックが発生しないスパッタリング或いはイオンプレーティング用ターゲット、及び耐薬品性に優れ非晶質構造の酸化物透明導電膜、それを高速で生産性よく成膜しうる製造方法を提供。【解決手段】実質的にスズ、亜鉛、および酸素からなる酸化物焼結体であって、亜鉛がZn/(Zn+Sn)の原子数比として0.05〜0.48含有され、かつ、主としてスズ酸亜鉛化合物相と酸化スズ相とから構成されることを特徴とする酸化物焼結体;これら酸化物焼結体を加工して得られるターゲット;このターゲットを用いて、スパッタリング法あるいはイオンプレーティング法で基板上に形成される透明導電膜などにより提供。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
実質的にスズ、亜鉛、および酸素からなる酸化物焼結体であって、亜鉛がZn/(Zn+Sn)の原子数比として0.05〜0.48含有され、かつ、主としてスズ酸亜鉛化合物相と酸化スズ相とから構成されることを特徴とする酸化物焼結体。
IPC (4件)：
C04B 35/457 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 ,  C23C 14/34
FI (4件)：
C04B35/00 R ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B ,  C23C14/34 A
Fターム (38件)：
4G030AA32 ,  4G030AA39 ,  4G030BA01 ,  4G030BA02 ,  4G030BA14 ,  4G030BA15 ,  4G030CA01 ,  4G030CA04 ,  4G030CA07 ,  4G030CA08 ,  4G030GA03 ,  4G030GA04 ,  4G030GA05 ,  4G030GA09 ,  4G030GA11 ,  4G030GA19 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4G030GA29 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA50 ,  4K029BB10 ,  4K029BC09 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC10 ,  5G323BA02 ,  5G323BB05 ,  5G323BB06
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 透明導電膜の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-079645   出願人：グンゼ株式会社
  • 特開平2-145458号公報
審査官引用 (3件)

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