特許

J-GLOBAL ID：200903032024853670

オキソアルキル基を有するスルホニウム塩化合物、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 岩佐 繁之 ,  前田 勝美 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374981
公開番号（公開出願番号）：特開2001-187780
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 本発明は130nm以上220nm以下の遠紫外光を用いたリソグラフィ用のフォトレジスト組成物において露光光に対し透明性が高く、感度の良い光酸発生剤を提供することを課題とする。【解決手段】 下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物を光酸発生剤として用いることにより解決される。【化1】(但し、R1、R2は各々独立してオキソ基を有する直鎖状、分岐状あるいは単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、R3は直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、Y-は対イオンを表す)

請求項（抜粋）：

下記の一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物。【化1】(但し、R1、R2は各々独立してオキソ基を有する直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、R3は直鎖状、分岐状、単環式、あるいは橋かけ環式アルキル基、Y-は対イオンである。)

IPC (3件)：

C07C381/12 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601

FI (3件)：

C07C381/12 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601

Fターム (16件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006TN40

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 橋かけ環式アルキル基を有するスルホニウム塩化合物、光酸発生剤、それを含有する感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-162244   出願人：日本電気株式会社
• 橋かけ環式アルキル基を有する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-116980   出願人：日本電気株式会社
• 特開昭57-102921
  
• 特開昭57-102922
  
• 硬化性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-297375   出願人：日本曹達株式会社
• 特許第2770740号
  
• 特許第2964990号