特許
J-GLOBAL ID：200903032066161093
微細パターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-614090
公開番号（公開出願番号）：特表2002-543582
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2002年12月17日
要約：
【要約】【目的】 室温で圧縮成形法を用いて基板上に微細パターンを形成する方法を提供する。【解決手段】 基板上に微細パターンを形成する方法であって、溶媒を有するポリマー物質を基板上にコーティングすることにより、基板上にポリマーフィルムを形成した後、予め定められた加圧法を用いて予め定められた形状を有するモールドで基板上のポリマーフィルムを加圧してポリマーフィルムを塑性変形させることにより、ポリマーフィルムをパターン化する。このような加圧法は、例えば略10〜30°Cの室温で行われる。モールドでポリマーフィルムを加圧する前にポリマーフィルム内の自由体積を予め増加させ、ポリマーフィルムを塑性変形させるのに必要な圧力を減少させる。その後、パターン化されたポリマーフィルムをマスクとしてエッチングを行い、基板上に微細パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
基板上に微細パターンを形成する方法であって、(a)溶媒を有するポリマー物質を基板上にコーティングすることにより、前記基板上にポリマーフィルムを形成する段階と、(b)予め定められた加圧法を用いて、予め定められた形状を有するモールドで基板上のポリマーフィルムを加圧して前記ポリマーフィルムを塑性変形させることにより、前記ポリマーフィルムをパターン化する段階と、(c)前記パターン化されたポリマーフィルムをエッチングマスクとして使用して前記基板をエッチングすることにより、前記基板上に微細パターンを形成する段階とを含む微細パターン形成方法。
Fターム (3件)：
5F046AA28
, 5F046JA19
, 5F046JA27
