高純度透明シリカガラスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-152158
公開番号（公開出願番号）：特開平10-114533
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】光透過性を利用する各種光学材料、高温型液晶基板などの用途、また高温で長時間使用する半導体製造装置治具などの用途に適用可能な気泡又は結晶化部分が極めて少なく、かつ加熱による密度変化やガスの浸入もない高純度透明シリカガラスの製造方法を提供する。【解決の手段】含有金属不純物としてNa、K、Mg、Ca、Fe、Al、Tiが各々独立して0.1ppm以下である珪素のアルコキシドより得た高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、熱処理及び圧力処理することにより気泡を除去した高純度透明シリカガラスを製造する方法を用いる。

請求項（抜粋）：

含有金属不純物としてNa、K、Mg、Ca、Fe、Al、Tiが各々独立して0.1ppm以下である珪素のアルコキシドより得た高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、熱処理及び圧力処理することにより高純度透明シリカガラスを製造する方法において、(a)出発原料を10mmHg以下の減圧雰囲気下出発原料が溶融しうる温度におき、その後不活性ガスで圧力で2kgf/cm2以上の加圧状態にして、直径1mm以上の気泡を減少させる工程と、(b)熱間静水圧プレス装置を用い、1200〜1350°Cの温度範囲で100〜200MPaの不活性ガスによる圧力を作用させ、直径1mm未満の気泡を減少させる工程と、(c)(b)の工程の後、1000〜1300°Cで熱処理した後徐冷する工程を備えてなることを特徴とする高純度透明シリカガラスの製造方法。

IPC (4件)：

C03B 20/00 , C03B 8/02 , C03C 3/06 , C04B 35/645

FI (4件)：

C03B 20/00 , C03B 8/02 , C03C 3/06 , C04B 35/64 302 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-005329
特開平1-131032
石英ガラスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-318088 出願人：株式会社ニコン

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