特許
J-GLOBAL ID:200903032116116620
セラミック構造体の製造方法及びセラミック構造体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-173565
公開番号(公開出願番号):特開2006-347793
出願日: 2005年06月14日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】アルミニウムチタネート(AT)の本来の特性を損なうことなく、熱膨張係数が小さく、且つ耐熱衝撃性や寸法精度に優れたセラミック構造体を1350〜1500°Cの低温焼成で製造することができるセラミック構造体の製造方法及びセラミック構造体を提供する。【解決手段】出発原料として、アルミニウム源をAl2O3換算で45質量%以上、そのアルミニウム源のうちベーマイトを5質量%以上、TiO2を30質量%以上含有する混合組成物粉末を、成形、乾燥、1350〜1500°Cの温度で焼成し、アルミニウムチタネートからなるセラミック構造体を製造する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
出発原料として、アルミニウム源をAl2O3換算で45質量%以上、そのアルミニウム源のうちベーマイトを5質量%以上、TiO2を30質量%以上含有する混合組成物粉末を、成形、乾燥、1350〜1500°Cの温度で焼成し、アルミニウムチタネートからなるセラミック構造体を製造するセラミック構造体の製造方法。
IPC (4件):
C04B 35/46
, B01D 39/00
, B01D 39/20
, C01G 23/00
FI (4件):
C04B35/46 B
, B01D39/00 B
, B01D39/20 D
, C01G23/00 C
Fターム (22件):
4D019AA01
, 4D019BA05
, 4D019BB06
, 4D019BC12
, 4D019CB06
, 4G031AA01
, 4G031AA03
, 4G031AA04
, 4G031AA11
, 4G031AA21
, 4G031AA29
, 4G031AA30
, 4G031AA40
, 4G031BA21
, 4G031BA23
, 4G031BA24
, 4G031CA01
, 4G031GA03
, 4G031GA11
, 4G047CA05
, 4G047CB04
, 4G047CC03
引用特許:
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