特許

J-GLOBAL ID：200903032153432168

枚葉式基板洗浄方法および装置

発明者： 半井 正澄 ,  小柳 哲雄 ,  山口 弘
出願人/特許権者： 株式会社セミテクノ ,  株式会社スガイ
代理人 (1件)： 佐野 章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-023125
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211684
出願日： 1994年01月25日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】 枚葉式の基板洗浄技術において、近接した洗浄槽と基板とのクロスコンタミネーションを防止する。【構成】 表面101aを上にして水平状態で受け取ったウェハ101を、オーバフローにより上昇流を生じている洗浄液102中に傾斜状態で浸漬するとともに、その液面近くで傾斜状態を所定時間保ち、これと同時に、ウェハ101の横方向からメガソニック振動を洗浄液102に与える。

請求項（抜粋）：

洗浄液中に基板を一枚ずつ浸漬して洗浄処理を行う洗浄方法であって、上昇流を生じている洗浄液中において、基板をその表面が上面側となるように、かつ水平よりわずかに傾斜した状態で保持するようにしたことを特徴とする枚葉式基板洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 洗浄処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-209121   出願人：ニチデン機械株式会社
• 特開平4-087675
  
• 特開平4-179228