特許

J-GLOBAL ID：200903032193769092

加飾シート及び加飾成形体

発明者： 樫野 正幸 ,  高際 英明
出願人/特許権者： ポリマテック株式会社
代理人 (2件)： 大竹 正悟 ,  武田 寧司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-038010
公開番号（公開出願番号）：特開2009-196127
出願日： 2008年02月19日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】微細なパターンのヘアーライン模様でありながら干渉ムラが見え難い加飾シートと、その加飾シートを表面に備える加飾成形体の提供【解決手段】第1ヘアライン印刷層4を第2ヘアライン印刷層5よりも暗い低明度ヘアライン印刷層として形成しているため、交差部分の濃度はこの暗い第1ヘアライン印刷層4の濃度が強く表れ、第1ヘアライン印刷層4における交差部分と他の部分との濃度差が生じていてもその差を小さくすることができる。よって濃度の差を目立たなくすることができ、干渉ムラが見え難いヘアライン模様を実現することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ヘアライン模様を有する加飾シートであって、 透明な基材シートと、 縞状パターンで構成される透光性の2以上のヘアライン印刷層と、を積層して備えており、 前記2以上のヘアライン印刷層は、各ヘアライン印刷層の縞状パターンが、他のヘアライン印刷層の縞状パターンと平面視で交差して積層されており、 一のヘアライン印刷層は残余のヘアライン印刷層よりもL*a*b*表色系(JIS Z 8729)のL*値 が小さい低明度ヘアライン印刷層として形成されている加飾シート。

IPC (4件)：

B44C 3/02 ,  B32B 33/00 ,  B41M 1/30 ,  B41M 3/00

FI (4件)：

B44C3/02 Z ,  B32B33/00 ,  B41M1/30 ,  B41M3/00 Z

Fターム (26件)：

2H113AA06 ,  2H113BA03 ,  2H113BA10 ,  2H113BB08 ,  2H113BB22 ,  2H113CA17 ,  2H113CA45 ,  4F100AB09C ,  4F100AK45 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA25 ,  4F100GB48 ,  4F100HB09B ,  4F100HB37B ,  4F100HB37C ,  4F100JL01B ,  4F100JL10C ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 押釦スイッチ用の加飾キートップおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-304686   出願人：ポリマテック株式会社