特許
J-GLOBAL ID：200903032282241204

ニッケル含有スラリー及びその製造方法、並びにリチウムニッケル系酸化物の製造方法

発明者：
金子 衛

金子 衛 について

, 
宮城 秀和

宮城 秀和 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-313525
公開番号（公開出願番号）：特開2003-119031
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：
【要約】【課題】 湿式法によりリチウムニッケル系酸化物を製造する際、スラリーの増粘の問題を生ぜず、リチウムニッケル系酸化物の製造に適した安定性の良いスラリーを製造する方法及びリチウムニッケル系酸化物の製造方法を提供する。【解決手段】 ニッケル化合物とリチウム化合物とを溶媒中で湿式粉砕処理に供してスラリーとした後、これを乾燥し、さらに焼成処理に供してリチウムニッケル系酸化物を製造するに際し、前記ニッケル化合物として、X線回折ピークの003面の半価幅が0.6度以下の酸化ニッケルを用いる。
請求項（抜粋）：
ニッケル化合物を溶媒中で混合処理に供してスラリーとするニッケル含有スラリーの製造方法において、該ニッケル化合物として、X線回折ピークの003面の半価幅が0.6度以下の酸化ニッケルを用いることを特徴とするニッケル含有スラリーの製造方法。
IPC (5件)：
C01G 53/04 ,  C01G 53/00 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40
FI (5件)：
C01G 53/04 ,  C01G 53/00 A ,  H01M 4/02 C ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z
Fターム (43件)：
4G048AA04 ,  4G048AB02 ,  4G048AB05 ,  4G048AC06 ,  4G048AD04 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  5H029AJ03 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL02 ,  5H029AL03 ,  5H029AL06 ,  5H029AL07 ,  5H029AL08 ,  5H029AL12 ,  5H029AM02 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029CJ28 ,  5H029HJ00 ,  5H029HJ01 ,  5H029HJ04 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ13 ,  5H050AA08 ,  5H050AA19 ,  5H050BA16 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050CB02 ,  5H050CB03 ,  5H050CB07 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB12 ,  5H050GA27 ,  5H050HA00 ,  5H050HA01 ,  5H050HA05 ,  5H050HA13
引用特許：
審査官引用 (6件)
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