特許
J-GLOBAL ID：200903032285112006
液晶性位相差フィルムの製造方法、及び液晶表示装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人田治米国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-154578
公開番号（公開出願番号）：特開2009-300698
出願日： 2008年06月12日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】基材上に特別の配向膜を成膜することなく、ネマチックハイブリッド配向液晶層を有する液晶性位相差フィルムを簡便な手法で作成する。【解決手段】ネマチックハイブリッド配向液晶層を有する液晶性位相差フィルムは、(A)重合性液晶化合物とアルコキシシラン加水分解物を含有する液晶層形成用組成物を、配向処理された基材フィルム上に塗布し、重合性液晶層を形成し、(B)重合性液晶化合物のガラス転移温度以上の温度に加熱し、(C)加熱された重合性液晶層を、ガラス転移温度より低い第1温度まで冷却し、(D)冷却された重合性液晶層を、重合性液晶層がネマチックハイブリッド配向となるように、第1温度よりも低い第2温度に冷却もしくは第1温度より高い第3温度に加熱し、(E)ネマチックハイブリッド配向となった重合性液晶層に対し、電磁波を照射して重合させ、配向が固定化されたネマチックハイブリッド配向液晶層を形成して得る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
配向処理された基材フィルム上に、ネマチックハイブリッド配向液晶層が設けられた液晶性位相差フィルムの製造方法において、以下の工程(A)〜(E):
工程(A)
重合性液晶化合物と、重合性液晶化合物100質量部に対し1.0〜12.0質量部のアルコキシシラン化合物の加水分解物とを含有する液晶層形成用組成物を、配向処理された基材フィルム上に塗布し、0.6〜3.0μm厚の重合性液晶層を形成する工程;
工程(B)
該重合性液晶層を、重合性液晶化合物のガラス転移温度以上の温度に加熱する工程;
工程(C)
重合性液晶化合物のガラス転移温度以上に加熱された該重合性液晶層を、該ガラス転移温度より低い第1温度まで冷却する工程;
工程(D)
第1温度まで冷却された該重合性液晶層を、該重合性液晶層がネマチックハイブリッド配向となるように、第1温度よりも低い第2温度に冷却もしくは第1温度より高い第3温度に加熱する工程; および
工程(E)
ネマチックハイブリッド配向となった該重合性液晶層に対し、電磁波を照射して重合させることにより、配向が固定化されたネマチックハイブリッド配向液晶層を形成する工程を有する製造方法。
IPC (3件)：
G02B 5/30
, G02F 1/133
, C08F 2/46
G02B5/30
, G02F1/13363
, C08F2/46
2H149AA02
, 2H149AB26
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB04
, 2H149DB15
, 2H149EA02
, 2H149FA24Y
, 2H149FA26Y
, 2H149FA33Y
, 2H149FA38Y
, 2H149FA51Y
, 2H149FD25
, 2H149FD30
, 2H149FD47
, 2H191FA22X
, 2H191FA22Z
, 2H191FA30X
, 2H191FA30Z
, 2H191FB02
, 2H191FB05
, 2H191FB21
, 2H191FB22
, 2H191FC08
, 2H191FC32
, 2H191FC33
, 2H191FC35
, 2H191FC36
, 2H191FD35
, 2H191GA22
, 2H191GA23
, 2H191HA06
, 2H191LA13
, 2H191LA25
, 2H191PA65
, 2H191PA73
, 2H191PA82
, 4J011AA05
, 4J011AC04
, 4J011PA47
, 4J011PA99
, 4J011QA03
, 4J011QA07
, 4J011SA22
, 4J011SA61
, 4J011SA64
, 4J011UA01
, 4J011UA03
, 4J011UA06
, 4J011VA01
, 4J011WA02
