特許
J-GLOBAL ID:200903032285565183
原料供給装置および成膜装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-274470
公開番号(公開出願番号):特開2007-084874
出願日: 2005年09月21日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】 固体原料を昇華させた気体原料を成膜装置に供給する原料供給装置であって、パーティクルの発生が抑制された原料供給装置と、当該原料供給装置を用いた成膜装置を提供する。【解決手段】 固体原料を昇華させた気体原料を成膜装置に供給する原料供給装置であって、内部に前記固体原料を保持する原料容器と、前記原料容器の第1の側に設置された第1の加熱手段と、前記原料容器の第2の側に設置された第2の加熱手段と、前記第2の側より前記第1の側の温度を高くし、前記第1の側で前記固体原料が昇華するよう前記第1の加熱手段および前記第2の加熱手段を制御する第1の処理を行う第1の温度制御手段と、前記第1の側より前記第2の側の温度を高くし、前記第2の側で前記固体原料が昇華するよう前記第1の加熱手段および前記第2の加熱手段を制御する第2の処理を行う第2の温度制御手段と、を有することを特徴とする原料供給装置。【選択図】 図1A
請求項(抜粋):
固体原料を昇華させた気体原料を成膜装置に供給する原料供給装置であって、
内部に前記固体原料を保持する原料容器と、
前記原料容器の第1の側に設置された第1の加熱手段と、
前記原料容器の第2の側に設置された第2の加熱手段と、
前記第2の側より前記第1の側の温度を高くし、前記第1の側で前記固体原料が昇華するよう前記第1の加熱手段および前記第2の加熱手段を制御する第1の処理を行う第1の温度制御手段と、
前記第1の側より前記第2の側の温度を高くし、前記第2の側で前記固体原料が昇華するよう前記第1の加熱手段および前記第2の加熱手段を制御する第2の処理を行う第2の温度制御手段と、を有することを特徴とする原料供給装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
4K030AA11
, 4K030AA12
, 4K030AA16
, 4K030BA20
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA01
, 4K030FA10
, 4K030LA15
引用特許:
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