特許
J-GLOBAL ID：200903032312686362
ブロック弁
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 丈夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060812
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281026
出願日： 1993年03月22日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造プラント等の高純度ガスを取り扱う配管路に使用される弁であり、高いガス置換性とクリーン性を有すると共に、設置スペースが少なくて済む。【構成】 一つのボディ1に主流体通路14、副流体通路16及びパージ流体供給通路19を夫々形成し、副流体通路16の途中に第1弁室17を、またパージ流体供給通路19の途中に第2弁室20を形成し、第1弁室17及び第2弁室20内に副流体通路16及びパージ流体供給通路19を夫々開閉するダイヤフラム2,3を配設し、パージ流体供給通路19を閉塞して副流体通路16を開放すると、主流体通路14内の流体の一部が副流体通路16内を流れて排出され、又、副流体通路16を閉塞してパージ流体供給通路19を開放すると、パージ流体がパージ流体供給通路19の一次側通路、第2弁室20、パージ流体供給通路19の二次側通路、第1弁室17及び副流体通路16の二次側通路を経て排出される構成とした。
請求項（抜粋）：
入口及び出口を有する主流体通路と、主流体通路に連通して出口を有する副流体通路と、副流体通路の途中に形成されて第1弁座を有する第1弁室と、第1弁室に連通して入口を有するパージ流体供給通路と、パージ流体供給通路の途中に形成されて第2弁座を有する第2弁室とから成るボディと;第1弁室内にこれの気密を保持すべく配設され、第1弁座に当離座する第1ダイヤフラムと;第2弁室内にこれの気密を保持すべく配設され、第2弁座に当離座する第2ダイヤフラムと;ボディに取り付けた第1ボンネットに進退移動自在に支持され、第1ダイヤフラムを第1弁座に当座させる第1ステムと;ボディに取り付けた第2ボンネットに進退移動自在に支持され、第2ダイヤフラムを第2弁座に当座させる第2ステムと;副流体通路の出口に接続された第1継手と;パージ流体供給通路の入口に接続された第2継手とから構成したことを特徴とするブロック弁。
引用特許：
前のページに戻る
