特許
J-GLOBAL ID:200903032354042350
薄膜形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八田国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-015566
公開番号(公開出願番号):特開2009-215644
出願日: 2009年01月27日
公開日(公表日): 2009年09月24日
要約:
【課題】複数層を同時に形成できる簡便な薄膜形成方法を提供する。【解決手段】第1放出領域に第1蒸着物質を蒸着する第1蒸着源22と、第2放出領域に第1蒸着物質とは異なる第2蒸着物質を蒸着する第2蒸着源23とを準備する段階と、前記第1放出領域と第2放出領域とが互いに重畳する第1重畳領域が設定されるように、第1蒸着源22と第2蒸着源23とを調整する段階と、前記第1蒸着源22と第2蒸着源23とを稼動し、前記第1蒸着物質および第2蒸着物質を被処理体の一部に蒸着する段階と、前記被処理体の一端を、第1放出領域から第1重畳領域を差し引いた第1蒸着領域、第1重畳領域、および第2放出領域から第1重畳領域を差し引いた第2蒸着領域がこの順に通過するように、前記第1蒸着源22および第2蒸着源23を被処理体の一端から他端まで移動させる段階と、を含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1放出領域に第1蒸着物質を蒸着する第1蒸着源と、第2放出領域に第1蒸着物質とは異なる第2蒸着物質を蒸着する第2蒸着源とを準備する段階と、
前記第1放出領域と第2放出領域とが互いに重畳する第1重畳領域が設定されるように、第1蒸着源と第2蒸着源とを調整する段階と、
前記第1蒸着源と第2蒸着源とを稼動し、前記第1蒸着物質および第2蒸着物質を被処理体の一部に蒸着する段階と、
前記被処理体の一端を、第1放出領域から第1重畳領域を差し引いた第1蒸着領域、第1重畳領域、および第2放出領域から第1重畳領域を差し引いた第2蒸着領域がこの順に通過するように、前記第1蒸着源および第2蒸着源を被処理体の一端から他端まで移動させる段階と、
を含むことを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (3件):
C23C 14/24
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (3件):
C23C14/24 S
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (10件):
3K107AA01
, 3K107CC45
, 3K107DD53
, 3K107GG04
, 3K107GG28
, 3K107GG32
, 4K029BB02
, 4K029CA01
, 4K029DB14
, 4K029KA01
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭51-033779
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有機薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-274734
出願人:株式会社アルバック
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