特許

J-GLOBAL ID：200903032357816305

平面基板上にデータパターンを記録するためのシステム

発明者： ダニエル・ゲルバート ,  アモス・ミシェルソン
出願人/特許権者： クレオ プロダクツ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-346686
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236020
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 半導体産業において使用される写真工具を発生する迅速なかつ工程の少ない方法を提供する。【構成】 写真製版のない写真手段発生器は変形可能なミラー空間光変調器1の像を水晶基板9上の薄いアブレーション可能な被覆上へつくるためにパルス化されたエキシマレーザを使用する。光パルスは変形可能なミラーアレイにおけるデータパターンに従って選択された領域から被覆をアブレーションしかつクリアする。露光の均一性は二次元的なオーバーライティング方法によって高められる。この高い画像縮小率は変形可能なミラーアレイ上の許容可能なエネルギー密度を超過させずに基板9上での高いエネルギー密度を可能にする。記録が写真製版のないものである(すなわち現像が必要とされない)ので、発生された画像は書き込みのすぐ後に実証され得る。最後の特徴は移相マスクに関して特に重要性を有する。

請求項（抜粋）：

平面基板上にデータパターンを記録するためのシステムであって、パルス化されたモードにおいて動作するレーザと、前記レーザによって照射された変形可能なミラーアレイ光変調器および前記データパターンを前記変調器にロードするための手段と、前記変調器の縮小された画像を前記基板上に形成する減力レンズとを含み、前記減力レンズは前記データパターンによって活性化された前記変形可能なミラーのものによって反射された光のみが前記減力レンズに到達することを可能にする態様で前記変調器に対して位置決めされ、前記基板と前記減力レンズとの間に相対運動を発生するための手段と、前記変調器における前記データパターンおよび前記パルス化されたレーザの光パルスを前記相対運動に同期させるための手段とを含み、それは複数個の前記縮小された画像を組合せることによって、前記縮小された画像よりも大きな前記基板の一部分上に前記データパターンを記録するためのものであり、前記レーザの前記光パルスと反応することが可能である前記基板に与えられた薄い被覆をさらに含む、システム。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特表平5-502141
  
• 特表平6-510632
  
• 画像記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-269792   出願人：大日本スクリーン製造株式会社