特許
J-GLOBAL ID:200903032476326634

シャフト状ワークの高周波焼入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大西 孝治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-241728
公開番号(公開出願番号):特開2001-064729
出願日: 1999年08月27日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【目的】 冷却液の跳ね返りによる焼きむら等に起因する高周波焼入の品質の劣化が生じないようにする。【構成】 横にしたシャフト状ワークWに沿って高周波加熱コイル100を移動させるシャフト状ワークの高周波焼入装置であって、高周波加熱コイル100で加熱された部分に冷却液Lを噴射する冷却ジャケット200と、高周波加熱コイル100からみて高周波焼入が施されていない側から冷却液Lが噴射されている側に向かって空気Airを噴射し、冷却ジャケット200から噴射された冷却液Lが高周波焼入を施されていない側に流出するのを防止する気体噴射機構300とを備えており、前記気体噴射機構300は、冷却ジャケット200から冷却液Lが噴射される全範囲に空気Airを噴射するように構成されている。
請求項(抜粋):
横にしたシャフト状ワークと高周波加熱コイルとを相対的に移動させるシャフト状ワークの高周波焼入装置において、高周波加熱コイルで加熱された部分に冷却液を噴射する冷却ジャケットと、高周波加熱コイルからみて高周波焼入が施されていない側から冷却液が噴射されている側に向かって気体を噴射し、冷却ジャケットから噴射された冷却液が高周波焼入を施されていない側に流出するのを防止する気体噴射機構とを具備しており、前記気体噴射機構は、冷却ジャケットから冷却液が噴射される全範囲に気体を噴射することを特徴とするシャフト状ワークの高周波焼入装置。
IPC (2件):
C21D 9/28 ,  C21D 1/10
FI (3件):
C21D 9/28 B ,  C21D 1/10 J ,  C21D 1/10 H
Fターム (9件):
4K042AA14 ,  4K042BA13 ,  4K042BA14 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042DD04 ,  4K042DD05 ,  4K042DF02 ,  4K042EA01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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