特許
J-GLOBAL ID：200903032488171016

複合材料およびその製造方法

発明者：
小嶋 克宏

小嶋 克宏 について

, 
野殿 光史

野殿 光史 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-378255
公開番号（公開出願番号）：特開2006-182603
出願日： 2004年12月27日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：
【課題】 基材上に炭素薄膜を形成する際の熱処理による膜厚の減少が抑制された複合材料およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が0.1分子/nm2以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基材と、該基材の表面を被覆する炭素薄膜とからなる複合材料の製造方法であって、 前記基材表面に、ポリアクリロニトリル系重合体が0.1分子/nm2以上のグラフト密度でグラフトした高密度高分子膜を形成し、該高密度高分子膜を熱処理して炭素薄膜を形成することを特徴とする複合材料の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 31/02 ,  C08F 292/00 ,  C23C 20/06
FI (3件)：
C01B31/02 101A ,  C08F292/00 ,  C23C20/06
Fターム (52件)：
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD17 ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146AD24 ,  4G146AD31 ,  4G146BA11 ,  4G146BA40 ,  4G146BA49 ,  4G146BB04 ,  4G146BB06 ,  4G146BB10 ,  4G146BB15 ,  4G146BB22 ,  4G146BC23 ,  4G146BC32B ,  4G146BC33B ,  4J026AC00 ,  4J026DB06 ,  4J026DB09 ,  4J026DB11 ,  4J026DB19 ,  4J026EA03 ,  4J026EA06 ,  4J026FA05 ,  4J026GA02 ,  4J026GA08 ,  4K022AA02 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA19 ,  4K022AA23 ,  4K022AA41 ,  4K022AA43 ,  4K022BA05 ,  4K022BA31 ,  4K022DA06 ,  5H018AA01 ,  5H018BB01 ,  5H018BB16 ,  5H018DD08 ,  5H018EE05 ,  5H018EE17 ,  5H018HH05 ,  5H050AA19 ,  5H050BA08 ,  5H050CB07 ,  5H050GA02 ,  5H050GA11 ,  5H050HA08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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