特許
J-GLOBAL ID：200903032510174393

光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法

発明者：
瀬川敏一

瀬川敏一 について

, 
栗原正彰

栗原正彰 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-170856
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072631
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 凹溝ピッチが位置に応じて変化する位相マスクの電子線描画を簡単に行うことができる。【解決手段】 透明基板の1面に格子状の凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクであり、ピッチが線形あるいは非線形に増加あるいは減少し、凹溝26と凸条27の幅の比が一定の複数のパターンA1 〜A3 を相互に並列してなる光ファイバー加工用位相マスク。その製造には、ピッチが異なる凹溝26と凸条27からなる複数のパターンを並列させて描画することにより行う。
請求項（抜粋）：
透明基板の1面に格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられ、その繰り返しパターンによる回折光を光ファイバーに照射して異なる次数の回折光相互の干渉縞により光ファイバー中に回折格子を作製する光ファイバー加工用位相マスクにおいて、ピッチが線形あるいは非線形に増加あるいは減少し、凹溝と凸条の幅の比が一定の複数のパターンを相互に並列してなることを特徴とする光ファイバー加工用位相マスク。
IPC (3件)：
G02B 6/10 ,  G02B 5/18 ,  G03F 1/08
FI (3件)：
G02B 6/10 C ,  G02B 5/18 ,  G03F 1/08 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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